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随着半导体技术节点缩小至 28 nm 以下,铜互连对应力诱导空洞的敏感性显著增加。制造过程中,铜通过电镀在高温下(通常 250-350 °C)沉积,然后冷却至室温。铜(约 17 ppm/K)与周围介质(低 k 材料约 3 ppm/K)之间的热膨胀系数失配在铜中产生显著的静水拉应力。这种应力在连接窄上层线与宽下层板的通孔下方最为强烈——这正是电源分配网络和信号路由结构中的典型几何构型。在工作温度下(通常 100-150 °C 结温),该应力驱动铜原子沿晶界和界面扩散,导致空位积累和在通孔下方或内部形成空洞核。由此产生的电阻增加可超过 10-20%,空洞扩展跨越通孔截面后很快发生完全开路失效。
| 测试结构 | 描述 | 评估的 SIV 风险 |
|---|---|---|
| 宽图案 | 连接宽金属板的通孔链 | 基线 SIV 敏感性 |
| 鼻形图案 | 从通孔到宽板边缘的窄线 | 几何依赖扩散路径 |
| 通孔链(多尺寸) | 受控尺寸的串联通孔 | 尺寸和间距效应 |
| 单通孔(开尔文) | 四线测量的隔离通孔 | 精确电阻监测 |
| 板中通孔 (VIM) | 通孔位于板中心 | 减应力设计评估 |
应力迁移的一个独特特征是其非阿伦尼乌斯温度依赖性。与大多数随温度单调加速的可靠性机理不同,SM 呈现钟形失效率曲线。SIV 风险在约 150-200 °C 的中等温度下达到峰值。在较低温度下,原子扩散太慢,在实用时间范围内无法产生显著空洞生长。在较高温度下,蠕变和塑性变形引起的应力松弛降低了空洞形核的驱动力。这意味着简单的高温加速(常见于电迁移测试)可能对 SM 产生误导——在 250 °C 下测试可能显示很少退化,而相同结构在 175 °C 下迅速失效。标准通过在相关范围内指定测试温度(通常 125 °C 至 275 °C)并要求多温度测试以提取活化能来解决这一问题。
测试方法规定恒定温度(等温)老化,定期测量电阻。标准提供详细指南:测试结构布局要求(最小尺寸、间距和每个晶圆的结构数量)、测试设备规格(温控在 ±1 °C 内、测量电流足够低以避免自热)、测试条件(通常在感兴趣范围内 3-5 个温度、每个条件最少 10 个结构)和测量间隔(对数间隔以实现高效数据收集)。失效准则通常定义为特定百分比的电阻增加,早期检测常用 10%,寿命终止评估常用 20%。标准建议采用对数正态分布拟合提取中位失效时间(MTF),这是半导体可靠性工程的标准做法。
答: 应力迁移由热机械应力驱动,无需电流——可在存储或空闲期间导致失效。电迁移由高电流密度(电子风力)驱动,在器件工作期间发生。两者都会在铜互连中引起空洞形成,但加速因子和温度依赖性不同:SM 是非阿伦尼乌斯的钟形温度响应,EM 遵循阿伦尼乌斯行为并随温度和电流密度单调加速。
答: 标准仅提供测试方法而非合格/不合格要求。汽车标准如 AEC-Q100 通常要求证明 SM 不会在器件额定寿命内、在最大结温下导致失效。对于成熟的 28 nm 和 40 nm 工艺,150 °C 下 1000 小时零失效是常见的内部基准。新兴节点可能需要扩展表征。
答: 在特定条件下可以。标准主要为晶圆级测试开发,但指出在适当测试结构可用时适用于封装级测试。封装级结果可能包括来自塑封料和基板的额外应力贡献,这些贡献根据材料和几何形状可能加剧或缓解 SIV。