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📐 BS EN ISO 14644 是英国标准学会(BSI)采纳并发布的 EN ISO 14644 系列,对应国际标准化组织(ISO/TC 209)制定的洁净室及相关受控环境国际标准。该系列以悬浮粒子浓度为基本控制对象,建立了从空气洁净度分级、监测、测试方法、设计建造、运行维护,到表面粒子与化学浓度分级、隔离装置、设备适用性评定等一整套技术体系,是制药、医疗器械、微电子、半导体、生物安全、食品及精密制造等行业洁净厂房设计、验收与日常管理的核心依据。
BS EN ISO 14644 系列的前身是 1999 版,现行版本由 ISO 于 2015 年前后陆续修订,CEN 采纳为欧洲标准后由英国以 BS EN ISO 形式出版。该系列由 BSI 技术委员会 LBI/30(洁净室技术)归口。系列覆盖两类典型对象:一是”洁净室”本身,即空气中悬浮粒子受控、并视需要控制其他参数(温度、湿度、压差、微生物、化学污染物)的封闭空间;二是”相关受控环境”,包括单向流/非单向流区域、隔离装置、微环境等局部受控空间。
系列不规定产品工艺要求,只规定与洁净度相关的分级、监测、方法与管理原则。实际应用中,药品生产还需同时满足 GMP(如 EU GMP Annex 1)要求,电子行业则需结合 ISO 14644 与行业指南共同使用。
BS EN ISO 14644 现行系列各分部(含主要发布年份)如下表所示。文章随后选取第 1、3、4、9、10 部分展开重点技术内容。
| 分部编号 | 英文主题 | 中文主题 | 主要年份 |
|---|---|---|---|
| 14644-1 | Classification of air cleanliness by particle concentration | 按粒子浓度划分空气洁净度等级 | 2015 |
| 14644-2 | Monitoring for continuing qualification | 基于粒子浓度的持续监测与再确认 | 2015 |
| 14644-3 | Test methods | 测试方法 | 2005 |
| 14644-4 | Design, construction and start-up | 设计、建造与启动 | 2001 |
| 14644-5 | Operations | 运行 | 2004 |
| 14644-6 | Vocabulary | 术语 | 2007 |
| 14644-7 | Separative devices (isolators, RABS) | 分离装置(隔离器、限制进出屏障系统) | 2004 |
| 14644-8 | Classification by airborne chemical concentration | 按空气中化学浓度分级(ACC) | 2013 |
| 14644-9 | Surface cleanliness by particle concentration | 按粒子浓度划分表面洁净度等级 | 2012 |
| 14644-10 | Surface cleanliness by chemical concentration | 按化学浓度划分表面洁净度等级 | 2013 |
| 14644-14 | Assessment of equipment by airborne particle concentration | 设备适用性评定(按空气粒子浓度) | 2016 |
14644-1 依据≥0.1 μm 至≤5 μm 粒径区间的悬浮粒子浓度限值,定义了 ISO Class 1 至 ISO Class 9 共九个等级。其核心公式为等级内某粒径的限值粒子浓度:
Cn = 10N × (0.1 / D)2.08
其中 Cn 为每立方米空气中该粒径的限值粒子数,N 为等级序数(可取 0.1 至 9 之间的值),D 为粒径(μm)。据此,ISO Class 5(即传统 Fed Std 209E 的 Class 100)要求≥0.5 μm 粒子数不超过 3 520 /m³,≥5 μm 粒子数为 29 /m³。
14644-3 规定了洁净室与受控环境的测试项目与方法,包括风速与风量、压差、粒子计数、自净时间、流型可视化(烟雾试验)、恢复时间、已安装过滤器检漏(PAO/DOP 气溶胶扫描)、气流平行度、围护结构密闭性等,是验收(PQ/安装确认)阶段最常引用的测试方法标准。
14644-4 给出洁净室从设计概念、围护结构、送回风、净化空调到调试启动的技术要求,强调”按用途确定气流组织(单向流或非单向流)””围护结构不产尘、不积尘””启动前必须完成测试与文件化确认”。
14644-9 按单位表面积上≥0.05 μm 至≥5 μm 粒子的数量划分表面洁净度等级(表面粒子法);14644-10 则按单位表面积上化学物质的浓度(μg/100 cm² 或 ng/100 cm² 等)划分化学表面洁净度等级,适用于对分子污染(AMC)敏感的半导体与光学制造。