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📖 BS ISO 18115 是英国标准协会(BSI)采纳 ISO 18115 形成的表面化学分析术语标准系列,为 XPS(X射线光电子能谱)、AES(俄歇电子能谱)、SIMS(二次离子质谱)以及 AFM(原子力显微镜)、STM(扫描隧道显微镜)等表面分析技术提供统一、规范的词汇定义。该系列由两部分组成:BS ISO 18115-1:2013 定义了光谱学中的一般术语;BS ISO 18115-2:2013 定义了扫描探针显微镜(scanning-probe microscopy)术语。统一的术语是表面分析领域沟通、报告、标准应用与国际合作的基础。
表面化学分析技术在半导体、新材料、催化、涂层、生物材料等领域应用广泛。XPS、AES、SIMS 通过对表面发射的电子或离子进行能量/质量分析,获取元素的化学态与分布信息;AFM、STM 则通过探针与表面的相互作用获得形貌与局域性质图像。这些技术的术语覆盖分析方法、仪器部件、物理量、数据处理与谱图特征等多个层面。
两个分部均由 BSI 技术委员会 CII/60(表面化学分析)负责制定,ICS 分类号为 01.040.71 与 71.040.40。2013 年版取代了 2010 年版(均已撤销)。标准参照 ISO 指南的词汇编写格式,对每个术语给出规范定义,允许对照英文、法文等同义表达,并列出不建议使用的术语(deprecated terms)。
| 分部 | 覆盖范围 | 主要技术 | 典型术语示例 |
|---|---|---|---|
| BS ISO 18115-1:2013 | 一般术语与光谱学术语 | XPS、AES、SIMS 等 | 结合能、逃逸深度、俄歇跃迁、二次离子产率等 |
| BS ISO 18115-2:2013 | 扫描探针显微镜术语 | AFM、STM、SPM 系列 | 扫描隧道电流、力常数、悬臂梁、针尖半径等 |
Part 1 涵盖表面分析方法的定义、仪器部件、测量物理量与谱图术语,为光谱类技术提供通用词汇;Part 2 聚焦扫描探针显微镜系列,覆盖成像模式、探针-样品相互作用、标定与图像处理术语。两部词汇结构一致,术语按主题领域组织并附缩略语表。
Part 1 定义了表面分析共用的基础术语(如表面、吸附、溅射深度剖面、深度分辨率)以及光谱技术专用术语(如光电子能谱中的结合能、费米边、功函数;俄歇电子能谱中的俄歇过程;二次离子质谱中的基体效应、质量分辨率)。定义遵循 ISO 词汇编写规范,非首选与废弃术语予以注明。
Part 2 定义了扫描探针显微镜的术语,包括扫描隧道显微镜(STM)与原子力显微镜(AFM)及其衍生模式(如轻敲模式、相位成像、力曲线)。术语覆盖探针与样品相互作用、成像参数、标定程序与伪影(artefacts)等,帮助使用者正确描述测量设置与结果。
标准规定了术语条目的结构:术语、缩写/符号、定义、来源与注释。定义中加粗或斜体的词汇表示其含义可在同卷其他条目中查到。使用者应在报告与分析文件中采用标准术语,以保证跨实验室、跨文献的一致性。